发明专利已授权

一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置

Name: 一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置
Brand: 河北工程大学
SKU: 201911194175X
Availability: InStock

📄 申请号：CN201911194175.X 📄 发布日：2025/11/17

著录项目信息

申请日

2019-11-28

公开号

CN110867360B

公开日

2022-04-05

申请人

河北工程大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01J37_02

IPC 分类号

H01J37_02 , H01J37_08 , H01J37_147 , H01J37_20 , H01J37_305 ,

技术画像

所属领域

等离子体蚀刻等离子体蚀刻光学器件加工微纳加工

应用场景

光学器件制造, 光通信器件制造, 半导体制造, 微纳结构加工, 精密蚀刻

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摘要

本发明公开了一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置，它包括由上往下顺次设置的外壳、工作台和机箱，空心轴延伸端的顶部焊接有吸盘，电机的输出轴与空心轴之间设置有可驱动空心轴旋转的传动装置，水平管的顶部焊接有电极柱，电极柱的上端焊接有电极片，电极片与吸盘顶部的内壁接触，电极柱的下端伸入于水平管内，且延伸端上固设有导线B，导线B的延伸端处连接有第二高频电源；盖板上设置有伸入于密闭腔内的天线，天线的顶部连接有导线A，导线A的另一端连接有第一高频电源；外壳上设置有电磁阀和卸压阀，电磁阀的另一端连接有储存有气源的气瓶。本发明的有益效果是：提高蚀刻效率、提高光学器件冷却效率、自动化程度高。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN110867360B

购买这项专利需要经过哪些流程？

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该专利的转让价格是多少？

当前标价为议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：163 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

✓ 企业认证✓ 手机绑定历史成交 3件好评率 98.5%

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