发明专利已授权

一种基于图的正则化光场超分辨率方法和光场显微装置

📄 申请号：CN202010927846.5 📄 发布日：2026/08/18

著录项目信息

申请日

2020-09-07

公开号

CN112070675B

公开日

2022-10-18

申请人

武汉工程大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G06T3_40

IPC 分类号

G06T3_40 , G06T5_00 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

生物医学显微成像, 医学病理分析, 生命科学研究, 工业显微检测, 材料微观结构观测

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摘要

本发明提供了一种基于图的正则化光场超分辨率方法和光场显微装置，通过将光场的超分辨率问题转化为求解目标函数最小化的问题：建立光场图像的降质模型作为数据保真项；计算微透镜阵列的偏移量，标定微透镜阵列的中心位置；根据偏移量计算当前视图的像素点在其它视图上的投影，计算视图的像素点和对应的投影点的相似度评分；提取光场视图之间的互补信息，进行正则化平滑处理；最后利用正则化平滑，求解目标函数最小化时的高分辨率视图。实现了对所有视图进行超分辨率重构的功能，大幅度提升了所有视图的分辨率，并有效保留了光场结构。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种基于微透镜阵列的三维重建方法、装置以及存储介质

当前第 / 件

基于频域位移的高分辨率光场显示方法及装置

同领域国内专利 · IPC: (G06T3_40)

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