发明专利 已授权

可补偿阴影遮挡的双投影结构光三维重建方法及系统

📄 申请号:CN202410517079.9 📄 发布日:2025/11/16

著录项目信息

申请日
2024-04-28
公开号
CN118096990B
公开日
2024-07-09
申请人
武汉工程大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

工业检测, 智能制造, 机器视觉, 逆向工程, 医疗辅助建模

摘要

本发明公开了一种可补偿阴影遮挡的双投影结构光三维重建方法,包括步骤:S1、对待测物体进行同步双投影,计算得到两台数字投影仪所投影的绝对相位;S2、利用预先标定好的相位与高度的映射关系得到两组待测物体的高度;S3、根据设置的阈值提取出一侧数字投影仪投影下的多个阴影区域,将阴影区域中每个像素进行重新匹配和重新赋值,根据赋值结果将多个阴影区域分为有效多个阴影区域和无效多个阴影区域;将有效阴影区域的高度替换为另一侧数字投影仪投影下待测物体相应区域的高度;S4、将有效阴影区域补偿后的该侧投影对应的待测物体的三维坐标信息进行点云融合。本发明可实现待测物体阴影部分的补偿,从而提高三维重建的精度。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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