一种用于半导体晶片的清洗装置

摘     要：本发明涉及半导体晶片清洗技术领域，具体而言，涉及一种用于半导体晶片的清洗装置，包括：超声波清洗机，安装在所述超声波清洗机侧面的固位支架，水平安装在所述固位支架上的传输机构，斜向设置在所述固位支架上的底面平板，铰接在所述底面平板下端的挡板，等间距连接在所述底面平板上端的若干沿顺条，设置在所述超声波清洗机后方的线性移动机构，阵列安装在所述线性移动机构上的若干支柱，安装在若干所述支柱上的夹取刷洁部，设置在所述夹取刷洁部上的下放机构，不仅能够防止在批量清洗的情况下半导体晶片之间互相影响，而且能够彻底杜绝外物在清洗时对体积较小的半导体晶片造成干扰，有力地保证了清洗效率和清洗效果。

著 录 项： 

• 1． 买家选定所需专利，确认国家手续办理方，下单，确认交易合同；
  2． 卖家确认专利可交易；
  3． 买家支付交易款项到平台；
  4． 买卖双方签订《专利转让委托书》、《转让协议》、《解除代理委托书》各一式两份并提交给办理国家手续方；
  5． 办理国家手续方提交办理官方手续，国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》；
  6． 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》；
  7． 平台把交易款项支付给卖家，至此专利转让合同完成。
  

• 交易方	企业	个人
  买家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（签字）
  	专利转让委托书（需盖公章）一式两份	专利转让委托书（需签字）一式两份
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  卖家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（需申请人签字）
  	解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请）	解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请）
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  	专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件	专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
  	专利证原件（若授权下证）	专利证原件（若授权下证）

• 日期

  法律信息

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