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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN202111680541.X | 专利名称: | 一种p-GaN HEMT中的新结构 |
申请日: | 2021-12-30 | 申请/专利权人 | 桂林理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 广西壮族自治区桂林市七星区建干路12号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L21/335分类检索 其他专利转让搜索 |
公开/公告日: | 2024-04-16 | 转让价格: | 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN114334650B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明提供一种p‑GaN HEMT中的新结构,包括如下步骤:外延生长;AlGaN与p‑GaN形成结;对外延生长的AlGaN/p‑GaN/AlGaN/GaN材料进行清洗;光刻隔离区;有源区台面隔离;刻蚀AlGaN与p‑GaN的结叠层;欧姆接触;栅极制备;钝化层沉积;开孔及金属互联。本发明以p型栅为基础设的AlGaN/p‑GaN/AlGaN/GaN HEMT双结栅器件,通过在p‑GaN上面加了一层AlGaN盖帽层,形成结,提高栅极性能,抑制漏电流。该盖帽层不仅与p‑GaN层形成结,而且还作为阻挡层阻挡了载流子注入行为。由于双结栅减少了泄漏并扩大了栅极击穿电压,因此具有更好的直流特性、关态击穿电压和栅极可靠性,从而推进了制备更高可靠性GaN功率器件的进程。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |