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本实用新型公开了一种等离子体辅助原子层沉积高阻隔膜装置，包括镀膜室、远程等离子体原子层沉积系统，所述镀膜室两侧分别设有收卷辊和放卷辊，所述镀膜室设有多个，且依次轴向相邻拼接密闭，所述镀膜室内设有导向辊，导向辊与收卷辊和放卷辊之间通过基材料带相连，每个镀膜室上方均设有远程等离子体原子层沉积系统，其等离子体发射端紧挨通过基材料带。本实用新型一种等离子体辅助原子层沉积高阻隔膜装置，通过针对镀膜室数量的灵活增设或减配，以此适配反应的循环次数来控制薄膜的厚度，其中装配后的每个镀膜室之间分别独立通气，每个腔体气压和气体组分可分别适当调整，有利于沉积出质量优良的薄膜。

本实用新型公开了一种稳定高效的电子束真空镀膜设备，包括镀膜室和卷绕室两部分，镀膜室内设有镀膜系统，卷绕室内设有卷绕系统和线膜厚检测仪，卷绕室与镀膜室分别单独连接有不同真空抽速的抽真空系统，且两者间采用隔板隔开并独立抽真空，两个抽真空系统的抽速分别由镀膜原料的材料以及通入的反应气体决定。本实用新型能够有效克服由于镀膜室的局部压强差过大引起材料蒸发不均匀导致成膜质量下降等问题，具有蒸发稳定、成膜质量高的特点，还能有效地改善由于卷绕室与镀膜室的压强差过大导致材料的有效利用率降低的问题，有效提高镀膜材料的利用率，并且能有效地解决镀膜室真空度变化过大引起的电子枪产生打火的现象，有效提高电子枪的稳定性。

本实用新型公开了一种可控的真空镀铝机中均匀通入氧气的装置，通过氧气瓶提供氧气，包括转接头、内管、外管，其中转接头的一侧连接有储气管，储气管分别通过轴承连接外管和内管，外管包绕于内管外，所述外管和内管的另一端通过轴承连接有轴一和轴二，并由轴一和轴二单独带动驱动，所述转接头与内管之间通过转动以控制氧气的流量大小。本方案通过气泵输出的恒定气压，经转接头进入储气管传而导至内管内，氧气通过内管放气孔进入外管，再通过外管的放气孔进入镀膜区域，同时内管与外管均可通过驱动转动，内管与外管放气孔的转动配合以及针阀来调节通入氧气的流量，并通过外管的旋转来调整氧气通入的位置与角度，以此来调节通入氧气分布的均匀性。

本实用新型公开了一种有效提高薄膜密度的卷对卷电子束镀膜设备,包括位于上方的卷绕室、下方的镀膜室。镀膜室与卷绕室通过镀膜主辊旁边的缝隙相连，所述卷绕室内设有卷绕系统、在线膜厚测试仪、等离子预处理系统，所述卷绕室顶部连有抽真空系统，所述镀膜室内设有电子枪系统、等离子体辅助系统、等离子监测系统、晶振仪、蒸发坩埚、偏转磁场系统。本实用新型能够有效克服成膜粒子在基底上迁移能力差所引起的致密度差的问题，具有蒸发速度快，成膜质量高的特点，还能有效地解决由于电子束的高能量改变沉积薄膜的化学计量比导致的阻隔性能的变差的缺点，利用反应性气体将金属元素转化为化学计量比稳定的高阻隔氧化物层，有效提高薄膜密度。

本实用新型公开了一种降低水汽透过率的阻隔膜，包括由下至上依次复合的有机柔性衬底层、无机氧化物层、单层的有机/无机杂化聚合物，其中单层的有机/无机杂化聚合物层通过旋涂的方式复合。本实用新型一种降低水汽透过率的阻隔膜，利用硅氧烷单体的水解和缩聚反应生成有机/无机杂化聚合物，并将此杂化材料涂敷于氧化物阻隔膜上，一方面可以填补无机层中的针孔和裂纹；另一方面通过与无机层表面的活性羟基反应生成更紧密的化学键从而产生协同作用，最终使WVTR以数量级地降低。

本实用新型提供一种柔性透明超低水汽透过率阻隔膜，涉及柔性薄膜领域，包括自下而上依次复合的有机柔性衬底、一层或多层具有褶皱形貌的隔水隔氧薄膜、有机层，所述隔水隔氧薄膜由有机聚合物层、无机氧化物层自下而上复合而成。本柔性透明超低水汽透过率阻隔膜是在有机柔性衬底上依次叠加具有“褶皱”形貌的有机聚合物层和无机氧化物层的隔水隔氧薄膜。利用有机聚合物层和无机氧化物层之间的热膨胀系数不同的原理在产生独特的“褶皱”形貌同时生成表面十分均匀致密的无机物层，从而实现对水汽氧气的阻隔，最终实现可见光透光率(380至800nm)大于85％和水汽透过率(WVTR)在38℃，90％RH条件下低于5×10‑6g/m2/天。