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摘 要:一种PMOS触发LDMOS‑SCR结构的高维持电压ESD保护器件,可用于片上IC高压ESD保护电路。主要由P衬底、N阱、P阱、第一P+注入区、第二P+注入区、N+注入区、第三P+注入区、第四P+注入区、金属阳极、金属阴极、多晶硅栅、薄栅氧化层和若干场氧隔离区构成。该LDMOS‑SCR结构的ESD保护器件在高压ESD脉冲作用下,一方面由第三P+注入区、第二多晶硅栅及其覆盖的薄栅氧化层、N阱、第四P+注入区构成的PMOS泄放路径,提高器件的维持电压、降低器件的触发电压;另一方面由所述第四P+注入区、所述N阱、所述P阱、所述第二P+注入区构成一条PNPN结构的ESD电流泄放路径,以提高器件的二次失效电流、增强器件的ESD鲁棒性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610008442.X | 专利名称: | 一种PMOS触发LDMOS-SCR结构的高维持电压ESD保护器件 |
申请日: | 2016-01-06 | 申请/专利权人 | 江南大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L27/02搜分类 SCR P L 器件 保护器件 高维持搜索 |
公开/公告日: | 2018-05-08 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN105489603B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |