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摘 要:本发明公开了一种在激光干涉纳米光刻中对光束入射姿态进行检测及校准的方法,其特征在于:在激光干涉纳米光刻中,使用CCD检测每束激光在光刻样品表面形成的光斑并进行计算机图像处理,通过光斑的形状、位置等参数来确定激光束相对于光刻样品表面的入射姿态,包括入射位置、入射角及空间角,并通过和理想入射姿态对比确定入射姿态误差。使用系统的调节装置对光束入射姿态进行相应的校准。在这种方法中,使用CCD检测光斑,计算机处理并确定多束光入射姿态,因此可以精确地检测到激光束相对于光刻样品表面的入射位置、入射角及空间角,使得入射光校准能够保证最终的光刻图案及曝光面积符合设计。该方法安装/操作简单、检测/校准快速,有利于激光干涉纳米光刻在工业生产中的应用。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201010511168.0 | 专利名称: | 激光干涉纳米光刻中光束入射姿态检测及校准的方法和系统 |
申请日: | 2010-10-19 | 申请/专利权人 | 长春理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省长春市卫星路7089号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/20搜分类 激光 干 光刻 检测 纳米搜索 |
公开/公告日: | 2016-01-06 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN102043347B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |