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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN201810006341.8 | 专利名称: | 一种提高n型GaSb基半导体激光器材料掺杂浓度的方法 |
申请日: | 2018-01-04 | 申请/专利权人 | 长春理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 吉林省长春市卫星路7186号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01S5/323分类检索 半导体专利转让搜索 |
公开/公告日: | 2019-09-27 | 转让价格: | 面议 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN108183391B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本发明公开了一种提高n型GaSb基半导体激光器材料载流子掺杂浓度的方法。该方法通过在掺杂源源炉上设置高温裂解装置实现多聚体掺杂源裂解为单原子分子,使掺杂源以单原子分子的形式掺杂到材料内部,所涉及的高温裂解装置上设有针阀,所述针阀可以控制合适强度的多聚体掺杂源进入高温裂解装置,使多聚体形式的掺杂源在裂解装置中充分裂解为单原子分子形式。本发明公开的这种方法利用特殊设计的掺杂源高温裂解装置获得单原子分子的Te分子束流,解决传统Te源以多聚体形式掺杂所导致的掺杂浓度低、材料外延质量差的问题,以Te单原子分子形式可实现掺杂浓度达到1×1019cm‑3及以上,满足2μm波段GaSb基半导体激光器器件制作要求。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |