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摘 要:本发明公开了一种V纳米线增强的宽滞后NiTiV形状记忆合金,属于新型金属的生产技术领域。该合金由镍、钛和钒三种原料组成,其中:钒的原子百分比为9~25%,镍和钛原子百分比满足:|Ni%‑Ti%|≤2%。该合金是通过熔炼、锻造和拉拔的方法得到的;在熔炼过程中镍钛与钒发生共晶反应,生成尺寸十分细小的片层状β‑V相,片层厚度小于300纳米;而在锻造和拉拔过程中,细小的钒片层继续发生变形,最终形成直径小于50纳米的纳米线。与NiTiNb合金相比,NiTiV具有较小的密度,有利于其应用为航空航天材料;与Nb相比,V的熔点更低,方便熔炼和热处理;相比已有的NiTiV合金,本发明中V含量较高,原子百分比为9~25%,能够更有效的提高合金的相变滞后。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810320090.0 | 专利名称: | 一种V纳米线增强的宽滞后NiTiV形状记忆合金 |
申请日: | 2018-04-11 | 申请/专利权人 | 安徽工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 安徽省马鞍山市花山区湖东中路59号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C22C19/03搜分类 后 IT 纳米线 形状记忆合金搜索 |
公开/公告日: | 2019-07-16 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108531779B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |