发明专利已授权

一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置

📄 申请号：CN202010713912.9 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2020-07-22

公开号

CN111885808A

公开日

2020-11-03

申请人

安徽工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H05H1_26

IPC 分类号

H05H1_26 , H05H1_30 ,

技术画像

所属领域

冷等离子体等离子体技术流体聚焦控制表面处理技术冷等离子体

应用场景

材料表面改性, 杀菌消毒, 生物医学处理, 等离子体清洗, 薄膜制备

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摘要

本发明公开一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置，包括上盖、聚焦装置主体、下盖、球铰喷头、等离子体射流发生器，所述上盖和所述下盖分别固定设置在所述聚焦装置主体的上下两端，所述等离子体射流发生器设置在所述聚焦装置主体内，所述球铰喷头设置在所述聚焦装置主体下端并对应所述离子体射流发生器的出射口设置；本发明利用流体聚焦原理设计出气流辅助聚焦装置实现对大气压冷等离子体射流的聚焦，具有结构简单、操作方便、聚焦效果好且可同时屏蔽空气对等离子体射流影响等优点，可大大提高大气压冷等离子体射流的加工精度并提高对其特性的可控性。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20220429

✅ 授权

20201120

?? 实质审查的生效：

20201103

📄 公开

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