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| 专利/申请号： | CN202110049460.3 | 专利名称： | 一种基于光场双色反射模型和全变分的高反光去除方法 |
| 申请日： | 2021-01-14 | 申请/专利权人 | 湖北工业大学 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 湖北省武汉市洪山区南李路28号 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | 分类号： | G06T5/00分类检索 其他专利转让搜索 |
| 公开/公告日： | 2022-08-05 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN112712483B | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要：本发明涉及光场测量技术，具体涉及一种基于光场双色反射模型和全变分的高反光去除方法，首先对原始光场图像解码并得到多个视角的子孔径图像，运用自适应阈值分割算法提取中心子孔径图像中的高反光像素点。在RGB颜色空间内，使用最小二乘法对每个高反光像素点的多个视角进行空间线性拟合；通过双色反射模型DRM和TI分析，建立拟合的空间直线和DRM的关联，最终得到所对应拟合空间直线的截距项常量即为每个高反光像素点的漫反射颜色。经过遍历图像高反光像素点得到高光去除后的图像。将遮挡视为噪点，使用TV去噪模型去除图像纹理边缘的遮挡效应。该方法在复杂纹理、强反射表面、室内和室外场景的多个场景中，具有很强的鲁棒性。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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