咨询电话:13280638997
传真:0533-3110363
邮箱:kefu@shizifang.com
摘 要:本发明公开了一种基于纳米级单层阻变膜的忆阻器制备方法,其运用阻变膜在偏压下产生的空穴和电离氧离子为载流子,并依靠其产生量的变化,以实现器件电阻变化的原理,在现有技术的基础上,从简化工艺和改进阻变膜材料配方两方面着手:省略了阻变膜陶瓷材料的预先烧结步骤、并选用金属离子化合价更高、陶瓷烧结温度更低的原料、采用更低的煅烧温度,以使Ca2+部分对Bi3+进行A位取代,以增加阻变膜内部晶格缺陷和空穴、增大了阻变膜层分子结构的不对称性等技术手段,简化了制备工艺、提高了生产效率、降低了生产能耗和生产成本;同时大幅提升了忆阻器的忆阻性能和成品率。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201711221184.4 | 专利名称: | 一种基于纳米级单层阻变膜的忆阻器制备方法 |
申请日: | 2016-01-21 | 申请/专利权人 | 山东科技大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 山东省青岛市经济技术开发区前湾港路579号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L45/00搜分类 纳米搜索 |
公开/公告日: | 2020-09-11 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN107833968B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/09/11 | 授权 | |
2018/04/20 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 45/00 专利申请号: 201711221184.4 申请日: 2016.01.21 |
2018/03/23 | 公开 |