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摘 要:本发明公开了一种具有Si-V发光的纳米金刚石薄膜的制备方法:在多晶金刚石衬底上,采用热丝化学气相沉积方法制备纳米金刚石薄膜;对纳米金刚石薄膜进行硅离子注入处理,注入剂量为1013-1015cm-2,得到硅离子注入的薄膜;硅离子注入的薄膜在800-900℃温度下,3000~5000Pa压力下,退火30-60分钟,得到退火后的薄膜;再在500-600℃温度下的空气中保温30-60分钟,即制得所述具有Si-V发光的纳米金刚石薄膜。本发明采用离子注入方法将定量的硅掺入到纳米金刚石薄膜中,使得硅的掺杂剂量实现定量化,实现了具有Si-V发光性能的纳米金刚石薄膜的可控制备,制备获得的纳米金刚石薄膜具有Si-V发光性能。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510570930.5 | 专利名称: | 一种具有Si-V发光的纳米金刚石薄膜及其可控制备方法 |
申请日: | 2015-09-09 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23C16/27搜分类 塑料 纳米搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2017/12/05 | 授权 | |
2016/01/13 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C23C 16/27 专利申请号: 201510570930.5 申请日: 2015.09.09 |
2015/12/16 | 公开 |