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摘 要:本实用新型涉及光刻技术领域,具体涉及一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统,其包括依次共轴设置第二反射镜、第三分光镜、第一分光镜、第二分光镜、光子筛、掩膜和硅片;第一分光镜一侧依次共轴设有对准光源和第一准直透镜,且第一准直透镜邻近第一分光镜;第二分光镜一侧依次共轴设有曝光光源和第二准直透镜,且第二准直透镜邻近第二分光镜;第三分光镜相对的两侧分别设有第一反射镜和CCD相机。采用分区域结构设计的双波长光子筛替代传统的投影物镜,解决了为了透过波长不同的对准光源和曝光光源,物镜镜片需镀双峰增透膜而导致系统结构复杂、透射率低的问题,既保证了双光源同时成像,又具有优良的聚焦成像性能,且降低了系统复杂度。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202120399493.6 | 专利名称: | 一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统 |
申请日: | 2021-02-23 | 申请/专利权人 | 西华大学 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 四川省成都市金牛区土桥金周路999号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G03F7/20搜分类 光刻搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |