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一种宽光谱响应的InGaAs单光子雪崩光电二极管及其制造方法

来源:https://www.shizifang.com  发布日:2023/07/10

摘     要:本发明请求保护一种宽光谱响应的InGaAs单光子雪崩光电二极管,包括衬底,在所述衬底上设有短波透光窗口,在所述衬底一侧设有n电极,另一侧设有腐蚀截止层,在所述腐蚀截止层上依次设有InGaAs标准波长吸收层、长波吸收层、渐变层、电荷层、倍增层以及钝化层。在所述倍增层内设有阶梯型PN结,而在所述倍增层另一侧设有p电极和钝化层。所述p电极和阶梯型PN结、以及透光窗口三者处于同一轴线上。本发明采用长波吸收层对1700nm‑1800nm波长的光子进行吸收,同时通过衬底上的透光窗口,防止760nm‑900nm波段光子在衬底材料中被吸收。将InGaAs单光子雪崩光电二极管的响应波长范围从900nm‑1700nm拓展到760nm‑1800nm,为该波段范围内提供了单个光子的探测灵敏度。

著 录 项: 

专利/申请号: CN201910280919.3 复制 专利名称: 一种宽光谱响应的InGaAs单光子雪崩光电二极管及其制造方法 复制
申请日: 2019-04-09 申请/专利权人 重庆邮电大学
专利类型: 发明 地址: 重庆市南岸区南山街道崇文路2号
专利状态: 已下证 查询审查信息 分类号: H01L31/107搜分类   电子元器件 电子设备和元器件搜索
公开/公告日: 2021-11-16 转让价格: 面议
公开/公告号: CN110071194B 交易状态: 等待洽谈   搜索相似专利

专利交易流程

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    5. 办理国家手续方提交办理官方手续,国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》;
    6. 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》;
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专利转让材料

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    专利转让协议(需盖公章)一式两份 专利转让协议(需签字)一式两份
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    专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
    专利证原件(若授权下证) 专利证原件(若授权下证)

专利法律信息

  • 日期 法律信息 备注
    2021/11/16 授权
    2019/08/23 实质审查的生效 IPC(主分类): H01L 31/107 专利申请号: 201910280919.3 申请日: 2019.04.09
    2019/07/30 公开
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