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摘 要:一种具有内嵌叉指NMOS双向SCR结构的ESD保护器件,可用于片上IC的ESD保护电路。主要由P衬底、P外延、第一N阱、P阱、第二N阱、第一N+注入区、第一P+注入区、第二N+注入区、第三N+注入区、第二P+注入区、第四N+注入区、第五N+注入区、第三P+注入区、第六N+注入区、若干多晶硅栅、若干薄栅氧化层、若干浅隔离槽构成。该器件一方面在正、反向的ESD脉冲作用下,器件内部均存在一条结构对称,电学特性完全相同的ESD电流泄放路径,可提高器件的ESD电流泄放能力,实现ESD脉冲的双向防护,另一方面由NMOS M1和M2管构成的叉指NMOS结构与寄生P阱电阻形成阻容耦合电流路径,以增强器件的ESD鲁棒性,降低SCR电流导通路径中的电流密度,增大SCR的导通电阻,提高维持电压。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510955242.0 | 专利名称: | 一种具有内嵌叉指NMOS双向SCR结构的ESD保护器件 |
申请日: | 2015-12-17 | 申请/专利权人 | 江南大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L27/02搜分类 SCR 器件 保护器件搜索 |
公开/公告日: | 2016-03-23 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN105428354A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2018/02/23 | 授权 | |
2016/04/20 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 27/02 专利申请号: 201510955242.0 申请日: 2015.12.17 |
2016/03/23 | 公开 |