实用新型 已授权

一种非线性晶体温控装置

📄 申请号:CN202022559564.2 📄 发布日:2026/09/28

著录项目信息

申请日
2020-11-09
公开号
CN213341063U
公开日
2021-06-01
申请人
武汉工程大学
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

激光系统, 光通信, 激光加工, 光学测量, 科研仪器

摘要

本申请提供一种非线性晶体温控装置,属于激光器制造领域。其晶体托块设置在支架底座的正上方,且晶体托块的顶部开设有容置口;可调节铜片可移动地设置在容置口中,并与容置口的侧壁共同构成用于容置非线性晶体的容置槽;保温绝缘外壳罩设在晶体托块的正上方,且相对两端处均开设有第一开口,保温绝缘外壳的相对两个侧壁的中部均开设有第二开口;半导体电子制冷片安装于支架底座与晶体托块之间,热敏电阻探头嵌入晶体托块中,电源电连接于数显电脑温控器,数显电脑温控器分别与半导体电子制冷片、热敏电阻探头电连接,用于对非线性晶体进行温度控制。该装置结构简单、成本较低,且加热效果好、操作安全。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN213341063U

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该专利的转让价格是多少?

当前标价为议价,可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:8 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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