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专利详情
实用新型
已授权
一种自动对位自动调节曝光平台结构
📄 申请号:CN202321649929.8
📄 发布日:2026/08/07
著录项目信息
申请日
2023-06-27
公开号
CN220357427U
公开日
2024-01-16
申请人
河源市璐悦自动化设备有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
G03F7_20
IPC 分类号
G03F7_20
技术画像
所属领域
自动对位技术
自动对位技术
曝光设备
精密运动平台
应用场景
PCB制造, 半导体光刻, 平板显示制造, 电子封装, 光伏电池制造
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摘要
本实用新型公开了一种自动对位自动调节曝光平台结构,包括底座,所述底座中设有通孔,通孔内设有升降机构,底座上横移模组,该横移模组的驱动端装设有底板,底板上设有支撑板,支撑板上设有滑块,滑块与滑轨连接,滑轨安装在立架上,立架顶部装设有顶板,底板上设有顶针,顶板上设有顶针孔,顶针从项针孔中活动穿过,顶板与升降机构连接,底板两侧分别设有视觉调节机构。本实用新型方便调节顶板高度位置,解决了对于高精度微线路曝光重复精度的问题,提升稳定性和生产良率。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种具有止滑效果的方向盘套
当前第 / 件
一种手动调节对位检测平台
同领域国内专利 · IPC: (G03F7_20)
G03F7_00
G03F7_004
G03F7_033
G03F7_09
G03F7_11
G03F7_16
G03F7_20
G03F7_30
G03F7_38
G03F7_40
G03F7_42
覆盖
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委托待转让
📌 交易状态:
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未申报
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