发明专利已授权

一种基于紫外光响应自组装系统的射流抛光装置和方法

📄 申请号：CN202111560516.8 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2021-12-20

公开号

CN114393503B

公开日

2023-05-02

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B31_00

IPC 分类号

B24B31_00 , B24B31_10 , B24B31_12 , B24B31_14 , B24B41_06 , B24B41_02 , B24B49_00 , B24B57_02 , B24B1_00 ,

技术画像

所属领域

射流抛光射流抛光超精密加工光响应材料

应用场景

光学元件加工, 半导体制造, 精密模具, 高端装备制造, 表面处理

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摘要

本发明公开了一种基于紫外光响应自组装系统的射流抛光方法和装置，包括以下步骤：工件由机械臂驱动实现3自由度平动和绕Z轴转动；通过可调光控装置对抛光液进行两级黏度变换，从而可以对抛光液的初始粘度、紫外线自组装基团对抛光磨粒的把持力进行大范围调控，获得恰当大小射流粘度及较大的磨粒把持力。所述一种基于紫外光响应自组装系统的射流抛光装置包括电机控制柜、冷却装置、搅拌装置、电机、调节阀、单向阀、泵、流量计、第一压力传感器、抛光箱体、第二压力传感器，光源发出的不同波长的光改变抛光体的初始黏度。此方法可以有效提高工件抛光的材料去除率、提高表面质量、保证高质量面型精度、降低表面粗糙度，实现对于复杂曲面的确定性可控抛光。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：28 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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