发明专利已授权

基于微纳米气相和洛伦兹力的高精度均匀化抛光装置

Name: 基于微纳米气相和洛伦兹力的高精度均匀化抛光装置
Brand: 浙江工业大学
SKU: 2019106758896
Availability: InStock

📄 申请号：CN201910675889.6 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2019-07-25

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B31_112

IPC 分类号

B24B31_112 , B24B31_12 , B24B1_00 ,

技术画像

所属领域

精密抛光技术精密抛光技术微纳米加工电磁场辅助加工

应用场景

半导体制造, 光学元件加工, 精密模具制造, 航空航天精密零件, 医疗器械表面处理

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摘要

一种基于微纳米气相和洛伦兹力的高精度均匀化抛光装置，包括由压力表、加工装置、磨粒缸、泵和控制阀组成的低压磨粒流回路，置于加工装置后方的电磁铁，置于磨粒缸中的搅拌器和水冷装置以及系统控制器；低压磨粒流在角度可调的楔形流道内抛光工件；角度可调指楔形流道的顶面倾斜角度可调；微纳米气相指磨粒流中的微小空化泡，由安装在加工装置流道入口前的微纳米气泡发生器产生；洛伦兹力为磁场对带电磨粒的作用力；磁场为置于加工装置后方的电磁铁所产生的平行于工件表面且垂直于磨粒流流动方向的强度可调均匀磁场；带负电磨粒为表面带负电荷的碳化硅磨粒。本发明使工件抛光后表面粗糙度均匀、表面精度提高、加工效率提高。

常见问题

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210226

✅ 授权

20191129

?? 实质审查的生效：

20191105

📄 公开

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