发明专利 已授权

氧化镓单晶生长过程中螺旋生长的判断方法、装置和设备

📄 申请号:CN202510051926.1 📄 发布日:2026/07/24

著录项目信息

申请日
2025-01-14
公开号
CN119479867A
公开日
2025-02-18
申请人
西安交通大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

功率半导体器件, 光电探测器, 电力电子设备, 半导体衬底制造, 晶体生长工艺监控

摘要

本申请提供了一种氧化镓单晶生长过程中螺旋生长的判断方法、装置和设备,涉及单晶生长技术领域,包括:根据氧化镓单晶生长系统的结构信息,建立几何模型;对所述几何模型内各个区域进行计算网格划分,设置所述几何模型中对应计算网格的边界条件和控制方程,得到传热流动数值模型;基于所述传热流动数值模型,模拟在当前生长参数下的氧化镓的传热流动过程,得到模拟结果;所述模拟结果包括:结晶生长过程中坩埚内氧化镓熔体区域的流场信息;根据所述模拟结果中氧化镓熔体区域的涡流分布情况,确定在所述当前生长参数下制备的氧化镓是否会发生螺旋生长。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN119479867A

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G16C20_10)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:71 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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