发明专利 已授权

一种针对熔石英光学元件进行抛光的方法及其装置

📄 申请号:CN201310402129.0 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2013-09-06
公开号
CN103465114B
公开日
2015-08-26
申请人
西安工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学元件制造, 激光系统, 半导体光刻设备, 精密仪器, 航空航天光学系统

摘要

本发明涉及到一种针对熔石英光学元件进行抛光的方法及其装置。本发明提供的技术方案是:一种针对熔石英光学元件进行抛光的方法,是利用非活性的气体电弧放电产生高温等离子体,在气压和管壁冷压缩效应作用下,等离子弧焰体集束聚焦于工件表面,使与焰体作用区域的熔石英表面温度急剧升高至熔石英材料的熔点,熔融态的石英在静张力作用下局部流平,达到抛光作用;所使用的装置,包括等电弧等离子体炬射流喷枪、六轴联动机械手及其控制系统、排气系统、光学减震平台、电弧等离子体发生器和样品台。主要优点是:保证材料表面面型在整个抛亮过程中不劣化,可将中大口径复杂面型超光滑光学元件的加工周期缩短四分之一以上。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:31 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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