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发明专利
已授权
掺氮改性的相变薄膜材料及其制备方法
📄 申请号:CN201410123117.9
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2014-03-28
公开号
CN103887430A
公开日
2014-06-25
申请人
江苏理工学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L45_00
IPC 分类号
H01L45_00
,
C23C14_35
,
C23C14_06
,
技术画像
所属领域
半导体材料
半导体材料
薄膜材料
相变存储材料
应用场景
相变存储器, 非易失性存储器件, 半导体集成电路, 光存储器件
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摘要
本发明公开了一种掺氮改性的相变薄膜材料及其制备方法,相变薄膜材料由Zn、Sb、N三种元素组成,其化学组成通式为Nx(Zn15Sb85)1-x,其中0.29≤x≤0.49。制备时通过在射频溅射沉积Zn15Sb85薄膜的过程中同时通入氩气和氮气,得到的相变薄膜材料中掺杂氮元素。本发明的掺氮改性相变薄膜材料与纯的Zn15Sb85薄膜相比,改性后的薄膜具有较快的晶化速度,大大提高相变存储器的存储速度;而且改性后的薄膜的晶化温度和激活能较高,数据保持能力得到加强;掺氮改性相变薄膜材料的晶态电阻和非晶态电阻更高,使得RESET功耗降低,有限降低用其制作的相变存储器的操作功耗。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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