发明专利已授权

采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统

📄 申请号：CN201510706206.0 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2015-10-27

公开号

CN105242499B

公开日

2017-09-19

申请人

西安中科立德红外科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G03F7_20

IPC 分类号

G03F7_20 , G02B27_10 ,

技术画像

所属领域

激光干涉光刻激光干涉光刻闪耀光栅光刻系统

应用场景

半导体制造, 微纳加工, 集成电路制造, 光学器件制造, 光子器件制造

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摘要

本发明公开了一种采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，该激光干涉光刻系统包括光源组件、扩束准直组件、多光束分光及合束组件、基片台，所述光源组件包括相干光源、第一透镜、第二透镜、闪耀光栅，所述相干光源发出的激光束依次经第一透镜、第二透镜后，再经反射镜折转光路后照射在闪耀光栅上，经闪耀光栅衍射后波长等于一级闪耀波长的光束经过小孔光阑出射，再经所述扩束准直组件、多光束分光及合束组件后分成多个相干光束并同时汇聚照射在位于基片台上的基片表面。本发明具有光能利用率高、相干长度长的优点，既增加了光路调整的灵活性和宽容度，又降低了激光光源谱线宽度要求，扩大了激光光源的选择范围。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种以转炉钢渣为原料制备钙铁双氧载体的方法

当前第 / 件

一种单端含烯双键的氟硅功能大分子单体及其制备方法

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