激光干涉光刻 - 专利交易市场|柿子坊知识产权运营平台

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本发明公开了一种采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统，该激光干涉光刻系统包括光源组件、扩束准直组件、多光束分光及合束组件、基片台，所述光源组件包括相干光源、第一透镜、第二透镜、闪耀光栅，所述相干光源发出的激光束依次经第一透镜、第二透镜后，再经反射镜折转光路后照射在闪耀光栅上，经闪耀光栅衍射后波长等于一级闪耀波长的光束经过小孔光阑出射，再经所述扩束准直组件、多光束分光及合束组件后分成多个相干光束并同时汇聚照射在位于基片台上的基片表面。本发明具有光能利用率高、相干长度长的优点，既增加了光路调整的灵活性和宽容度，又降低了激光光源谱线宽度要求，扩大了激光光源的选择范围。

📄 2015107062060 📂 G03F7_20 👤 西安中科立德红外科技有限公司 📅 2015-10-27

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采用闪耀光栅的激光干涉光刻系统