发明专利 已授权

一种精确测量二维面内位置与位置变化的装置和方法

📄 申请号:CN201611230330.5 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2016-12-27
公开号
CN106643831A
公开日
2017-05-10
申请人
陕西科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

精密测量, 工业自动化, 半导体制造, 机械加工, 仪器仪表

摘要

本发明公开了一种精确测量二维面内位置与位置变化的装置和方法,测量装置包括光源、透明导电层、光敏电阻层、电阻层、电源、电压表。当光照射到透明导电层上时,光通过透明导电层到达光敏电阻层,被光照射到的光敏电阻层阻值急剧减小,使得光照处透明导电层与电阻层导通,透明导电层光照点处所对应电压即为电阻层相应光照点处所对应电压。此时通过测量透明导电层及电阻层上光照点位置到其各自导电条之间的电压值,计算出平面内光照点位置的X坐标与Y坐标,最终得到光照点的位置。当光照点移动,测得的电压值发生变化,可换算出相应的位置变化。该方法和装置具有结构和原理简单、成本低廉的优点,可被用于监测、精密测量及自动化控制等领域。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20190517
✅ 授权
20170606
?? 实质审查的生效 :
20170510
📄 公开

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