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发明专利
已授权
一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法
📄 申请号:CN201810367398.0
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2018-04-23
公开号
CN108415116A
公开日
2018-08-17
申请人
陕西师范大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G02B5_30
IPC 分类号
G02B5_30
,
C23C14_30
,
C23C14_18
,
C23C14_04
,
技术画像
所属领域
纳米薄膜
纳米薄膜
手性光学材料
纳米材料制备
应用场景
光学器件, 手性传感, 偏振光学, 纳光子器件, 光谱分析
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摘要
本发明具体涉及一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法,该单层三折孔纳米薄膜由多个相同的纳米单元上下、左右组合构成,且呈单层手性结构,纳米单元的横截面为正方形,所述纳米单元上开设有三折孔,三折孔具有手性特征,且三折孔的长度方向与正方形的边长平行。该单层三折孔纳米薄膜的制备方法,包括甩胶后烘、曝光、显定影后烘、真空镀膜、溶胶后吹干步骤,比现有的三层、两层纳米薄膜的制备方法更简单,且该单层三折孔纳米薄膜实现强吸收圆二色性,且信号分布在可见光波段,利于信号的探测。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20210115
✅ 授权
20180911
?? 实质审查的生效 :
20180817
📄 公开
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覆盖
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未申报
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