发明专利 已授权

一种基于倾斜垂直磁各向异性TbCo薄膜及制备方法

📄 申请号:CN202111444000.7 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2021-11-30
公开号
CN114156042B
公开日
2023-09-12
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

磁存储, 自旋电子器件, 磁传感器, 磁随机存储器

摘要

本发明公开了一种基于倾斜垂直磁各向异性TbCo薄膜及制备方法。本发明可以简单分成三层:缓冲层、合金层和保护层。通过共溅射工艺的优化,以及Tb和Co溅射功率的调节,可以实现TbCo垂直各向异性的控制,实现倾斜垂直各向异性。本发明提供了这种基于TbCo合金的倾斜垂直磁各向异性工艺方法,相比于其他实现材料体系,其实现方法更加适用于产业化的晶圆级尺寸样品生长,且更加经济高效。在未来的磁存储行业中有着很大的应用前景。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (H01F10_12)

H01F10_12 H01F10_13 H01F10_20 覆盖3个领域
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:28 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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