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发明专利
已授权
一种基于倾斜垂直磁各向异性TbCo薄膜及制备方法
📄 申请号:CN202111444000.7
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2021-11-30
公开号
CN114156042B
公开日
2023-09-12
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01F10_12
IPC 分类号
H01F10_12
,
H01F41_18
,
技术画像
所属领域
磁性薄膜
磁性薄膜
磁各向异性
薄膜制备技术
应用场景
磁存储, 自旋电子器件, 磁传感器, 磁随机存储器
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摘要
本发明公开了一种基于倾斜垂直磁各向异性TbCo薄膜及制备方法。本发明可以简单分成三层:缓冲层、合金层和保护层。通过共溅射工艺的优化,以及Tb和Co溅射功率的调节,可以实现TbCo垂直各向异性的控制,实现倾斜垂直各向异性。本发明提供了这种基于TbCo合金的倾斜垂直磁各向异性工艺方法,相比于其他实现材料体系,其实现方法更加适用于产业化的晶圆级尺寸样品生长,且更加经济高效。在未来的磁存储行业中有着很大的应用前景。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
基于楔形钴铂组分梯度薄膜的磁性随机存储器及制备方法
当前第 / 件
一种根系土力学测试的分区取样的装置及测试方法
同领域国内专利 · IPC: (H01F10_12)
H01F10_12
H01F10_13
H01F10_20
覆盖
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委托待转让
📌 交易状态:
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未申报
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