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本发明公开了一种高频低损耗非晶软磁复合膜材料及其制备方法，这种软磁复合材料是复合膜形式，涉及磁电子材料技术领域。首先将一定粒度的非晶软磁粉体进行前预处理，然后进行绝缘包覆。将其与适量的树脂和助剂配置成浆料，然后流延成非晶复合膜并干燥。所制备的磁性复合膜可以多层叠压成一个整体、也可以单独使用。本发明通过流延方法制备成的非晶复合膜，在1MHz～200MHz具有大于10且稳定的磁导率，具有低于0.08的损耗角，可应用于高频电磁屏蔽、电感器件、吸波等领域。

一种基于非晶CoNiFe的多层磁芯膜，由非晶CoNiFe磁性层和CoNiFeO氧化绝缘层交替溅射得到；所述非晶CoNiFe磁性层是采用Co(65～68)Ni(12～14)Fe(18～23)合金作为靶材，在溅射功率为0.1～0.5W/cm2、溅射气压为0.02～1.2Pa的条件下采用磁控溅射方法得到的；所述CoNiFeO氧化绝缘层是通过通入氧气，将非晶CoNiFe磁性层氧化得到的。本发明采用特定比例的靶材与磁控溅射的工艺参数共同作用下，得到了非晶薄膜。与现有的添加非磁性元素形成非晶薄膜的方式相比，更加有利于获得高的饱和磁化强度和高的各向异性场，利于磁芯膜在高频下的应用。