发明专利已授权

一种波前光刻方法与系统

📄 申请号：CN202210484627.3 📄 发布日：2026/06/16

著录项目信息

申请日

2022-05-05

公开号

CN114995065B

公开日

2025-07-15

申请人

浙江理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G03F7_20

IPC 分类号

G03F7_20

技术画像

所属领域

光刻技术光刻技术波前调控光学系统

应用场景

半导体制造, 集成电路制造, 微纳加工

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摘要

本发明公开了一种波前光刻方法与系统，包括如下步骤：S1、将波前信息分解成若干个子波前信息；S2、采用宏像素来逐个分解、编码并光刻输出具有消散斑、去高斯分布的子波前信息，宏像素单元内包含子波前信息的振幅和相位信息；能够在4π立体角空间内实现参考光物光的任意干涉角度的实时调制，能够高效制备高均匀性、消散斑噪音的复杂微纳结构；能够提高波前信息的信噪比，减少光强受激光的高斯分布的影响，获得高质量的波前信息。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种先驱体转化制备连续陶瓷纤维的装置及方法

当前第 / 件

基于生物纳米媒染剂及声化学预处理的羊毛低温染色方法

同领域国内专利 · IPC: (G03F7_20)

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