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全部 发明 实用新型 外观设计
法律状态： 全部 已授权 审中
项目申报： 全部 报过 没有报过
共 3 件在售专利
一种利用掩膜光刻技术一步制备微米级双层结构的方法
发明 已授权
本发明公开了一种利用掩膜光刻技术一步制备微米级双层结构的方法，该方法解决了利用现有的光刻技术来制备微米级双层结构时只能通过复杂的套刻工艺来实现的问题。本发明的方法为：设计用于制备微米级双层结构的掩膜版，获得所设计的掩膜版后在正性光刻胶上进行掩膜光刻，只需进行一次光刻工艺流程便可在基片表面获得微米级双层结构。本发明适用于半导体制造、功能性界面材料、多尺度微纳结构制造等应用领域。
📄 2022101664362 📂 G03F7_20 👤 鲁东大学 📅 2022-02-23
¥0.0 元
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一种波前光刻方法与系统
发明 已授权
本发明公开了一种波前光刻方法与系统，包括如下步骤：S1、将波前信息分解成若干个子波前信息；S2、采用宏像素来逐个分解、编码并光刻输出具有消散斑、去高斯分布的子波前信息，宏像素单元内包含子波前信息的振幅和相位信息；能够在4π立体角空间内实现参考光物光的任意干涉角度的实时调制，能够高效制备高均匀性、消散斑噪音的复杂微纳结构；能够提高波前信息的信噪比，减少光强受激光的高斯分布的影响，获得高质量的波前信息。
📄 2022104846273 📂 G03F7_20 👤 浙江理工大学 📅 2022-05-05
¥0.0 元
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一种微透镜掩模版及其制备方法
发明 已授权
本发明公开了一种微透镜掩模版及其制备方法，属于纳米光子器件技术领域，方法包括：在衬底上组装单层聚苯乙烯微球，形成第一样片；在第一样片上涂布第一胶体，刻蚀第一胶体以露出部分聚苯乙烯微球，形成第二样片；去除第二样片上的聚苯乙烯微球，得到球形空腔模具；在球形空腔模具填充第二光刻胶，并定型、曝光以固化第二光刻胶；分离第二光刻胶和球形空腔模具，得到可重复使用的微透镜掩模版。本发明制备的微透镜掩模版可在大面积辅助光刻微纳图案中重复使用，成本低周期短效率高。
📄 2019105900150 📂 G03F1_38 👤 电子科技大学广东电子信息工程研究院 📅 2019-07-02
¥0.0 元
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发明 已授权

一种利用掩膜光刻技术一步制备微米级双层结构的方法

2022101664362 · 鲁东大学
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发明 已授权

一种波前光刻方法与系统

2022104846273 · 浙江理工大学
¥0.0 元
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发明 已授权

一种微透镜掩模版及其制备方法

2019105900150 · 电子科技大学广东电子信息工程研究院
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转让方：××大学
受让方：××生物医药有限公司
交易类型：转让
交易金额：¥1,200万
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转让方：××半导体有限公司
受让方：××汽车电子集团
交易类型：转让
交易金额：¥680万
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转让方：××科技公司
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交易类型：开放许可
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