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发明专利
已授权
一种再模糊理论的双模态聚焦分析方法
📄 申请号:CN202210519790.9
📄 发布日:2026/05/07
著录项目信息
申请日
2022-05-13
公开号
CN114972141B
公开日
2024-12-17
申请人
华侨大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G06T5_50
IPC 分类号
G06T5_50
,
G06T5_70
,
G06T7_13
,
技术画像
所属领域
图像处理
图像处理
计算机视觉
聚焦分析
应用场景
图像对焦, 工业检测, 摄影摄像, 医学影像, 多模态成像
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摘要
本发明提供一种再模糊理论的模态聚焦分析方法,包括:对待分析的灰度图像利用卷积进行模糊化,对待分析图像和模糊图像分别进行小波变换,提取待分析图像和模糊图像空域边缘,计算得到待分析图像的边缘图和模糊图像的边缘图;采用均值矩阵的滑动窗口计算所提取的待分析图像的低频纹理、模糊图像的低频纹理、待分析图像的高频边缘、模糊图像的高频边缘、待分析图像的边缘图和模糊图像的边缘图的方差矩阵;方差差值矩阵,均值方差差值,最终计算聚焦度得分;根据聚焦度得分,获取图像的聚焦位置,本发明采用再模糊理论,实现无参考图像的自比较,降低评价方法对应用场景和测量样本的实际要求,提高聚焦评价方法的普适性。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种P2型五元高熵钠层状正极材料及其制备方法和应用
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