发明专利 已授权

一种可用于单向光学隐身的多层电介质结构

📄 申请号:CN202110985778.2 📄 发布日:2026/08/24

著录项目信息

申请日
2021-08-26
公开号
CN113552733A
公开日
2021-10-26
申请人
湖北科技学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

军事隐身防护, 光学器件设计, 信息安全, 光通信系统

摘要

本发明提供了一种可用于单向光学隐身的多层电介质结构,属于光学隐身器件技术领域。多层电介质结构包括两个呈宇称‑时间对称分布的Thue‑Morse(图厄‑摩尔斯,T‑M)序列,T‑M序列SN的迭代规则为:S1=A,N=1;S2=AB,N=2;SN=SN‑1(A→AB,B→BA),N≥3,其中SN‑1中的A→AB表示A由AB代替,B→BA表示B由BA代替,N表示序列的序号,SN表示序列的第N项;A为第一电介质层;B为第二电介质层;第一电介质层和第二电介质层为两种折射率不等的均匀电介质薄片,当某波长值的入射光从一侧入射,通过多层电介质结构反射后的反射光强为零,而该波长的光波从另一侧入射时,反射光强不为零,从而实现该波长值的入射光的单向隐身;改变增益‑损耗因子可实现对隐身波长的调控。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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