发明专利 已授权

一种基于谐振腔的微波等离子体EUV光源

📄 申请号:CN202411935554.0 📄 发布日:2025/12/10

著录项目信息

申请日
2024-12-26
公开号
CN119739009B
公开日
2025-09-02
申请人
电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体光刻, 极紫外光刻, 集成电路制造, 半导体制造设备, 先进制程芯片制造

摘要

本发明公开了一种基于谐振腔的微波等离子体EUV光源,包括微波及出光共形系统、微波馈入系统、工质供给系统和腔体冷却系统,其中微波及出光共形系统采用球形谐振腔作为微波能量耦合和等离子体产生的核心结构,并通过在谐振腔内表面引入微波亚波长尺寸的镂空网格共形结构,能够在不影响腔体内部微波场分布的情况下,使EUV光顺利透过腔体表面,并引导至腔外,从而解决了传统谐振腔中微波场封闭和EUV光引出之间的矛盾问题。此外本发明既能够保证腔体内微波能量的高效耦合,又能够通过合理设计网格的尺寸和形状,实现EUV光束的高效引出,同时避免了传统设计中常见的微波泄露和能量损失,从而提升了整体光源的能量转换效率。

常见问题

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是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN119739009B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G03F7_20)

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📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:220 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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