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发明专利
已授权
用于高分子材料表面改性的辉光等离子体生成装置
📄 申请号:CN201810738883.4
📄 发布日:2025/10/15
著录项目信息
申请日
2018-07-06
公开号
CN108882493A
公开日
2018-11-23
申请人
北京睿昱达科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H05H1_24
IPC 分类号
H05H1_24
技术画像
所属领域
等离子体技术
等离子体技术
表面改性
高分子材料处理
应用场景
高分子材料表面改性, 材料表面活化, 等离子体清洗, 聚合物表面处理, 薄膜表面处理
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摘要
本发明提供了一种用于高分子材料表面改性的辉光等离子体生成装置。包括:高频高压电源、高压电极、绝缘介质、金属网电极和改性材料。高压电极通过引线与高压高频电源相连接,金属网电极通过引线与接地端相连,绝缘介质设置在高压电极、金属网电极之间,改性材料放置于金属网电极的表面,高压电极与绝缘介质之间、绝缘介质与金属网电极之间、金属网电极与改性材料之间都保持密封接触,当高压高频电源施加的电压达到放电电压后,辉光放电等离子体在放电区域内生成,并作用于改性材料。本发明通过将改性材料与电极直接接触构造了亚毫米级放电间隙,抑制了电子崩的发展程度,从而抑制丝状放电的产生,有利于提高等离子体对材料表面改性的效果。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20210323
✅ 授权
20181218
?? 实质审查的生效 :
20181123
📄 公开
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