发明专利已授权

一种强噪声条件下光场EPI图像超分辨率的处理方法

📄 申请号：CN202010626079.4 📄 发布日：2025/12/11

著录项目信息

申请日

2020-07-02

公开号

CN111951159B

公开日

2024-04-26

申请人

西安理工大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G06T3_4053

IPC 分类号

G06T3_4053 , G06T5_70 ,

技术画像

所属领域

图像处理图像处理光场成像超分辨率重建

应用场景

计算摄影, 机器视觉, 工业检测, 自动驾驶, 智能安防

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摘要

本发明公开了一种强噪声条件下光场EPI图像超分辨率的处理方法，具体按照以下实施：读入光场原始文件，进行解析，得到光场原始图像、光场白图像和微透镜中心坐标文件；利用得到的光场原始图像、光场白图像和微透镜中心坐标文件进行解码，得到光场图像的二维位置信息；通过得到的光场图像信息提取不同角度信息的子孔径图；对得到的子孔径图提取像素点，得到光场EPI图像；对得到的光场EPI图像进行BM3D去噪处理；对去噪处理后的光场图像进行超分辨重建，完成强噪声条件下光场EPI图像超分辨率的处理，能在不改变光场相机硬件设计的条件下，利用光场多视图间的关系，对光场EPI图像实现超分辨率重建。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：82 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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