一种晶圆清洗装置

著 录 项 目：

摘     要：本申请涉及半导体生产的领域，尤其是涉及一种晶圆清洗装置，解决了高压气体和高压水柱对晶圆进行冲洗时，水柱及气柱与晶圆表面冲击时常造成晶圆上的硅晶碎屑的飞溅，使晶圆的清洗减慢或清洗不干净的问题，其包括废料池，所述废料池上方设有供待清洗晶圆放置的清洗台，所述清洗台上方设有多个用于喷出高压气体的喷气头和多个用于喷出高压水柱的喷水头，其特征在于：所述喷气头和所述喷水头均为扁头，所述喷气头和所述喷水头均倾斜向下，并朝向所述清洗台。本申请具有方便晶圆的清洗，提高晶圆的清洗速度的效果。

• 1． 买家选定所需专利，确认国家手续办理方，下单，确认交易合同；
  2． 卖家确认专利可交易；
  3． 买家支付交易款项到平台；
  4． 买卖双方签订《专利转让委托书》、《转让协议》、《解除代理委托书》各一式两份并提交给办理国家手续方；
  5． 办理国家手续方提交办理官方手续，国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》；
  6． 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》；
  7． 平台把交易款项支付给卖家，至此专利转让合同完成。
  

• 交易方	企业	个人
  买家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（签字）
  	专利转让委托书（需盖公章）一式两份	专利转让委托书（需签字）一式两份
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  卖家	营业执照副本复印件（需盖公章）	身份证复印件（需申请人签字）
  	解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请）	解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请）
  	专利转让协议（需盖公章）一式两份	专利转让协议（需签字）一式两份
  	专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件	专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
  	专利证原件（若授权下证）	专利证原件（若授权下证）

• 日期

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