发明专利 已授权

一种高精度半导体晶圆片外径研磨装置

📄 申请号:CN202210835806.7 📄 发布日:2026/02/25

著录项目信息

申请日
2022-07-15
公开号
CN115042086A
公开日
2022-09-13
申请人
江苏科沛达半导体科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体晶圆制造, 晶圆边缘修整, 集成电路制造, 芯片加工, 精密制造

摘要

本发明公开了一种高精度半导体晶圆片外径研磨装置,包括研磨箱、夹持定位机构、可调式研磨机构、清洁机构,夹持定位机构设于研磨箱内,夹持定位机构包括定位支撑板,定位支撑板位于研磨箱内的一侧连接有一对升降支撑杆,一对升降支撑杆的外侧均设有限位支撑柱,定位支撑板的两侧均设有支撑块,一对支撑块相贴近的一侧均设有夹紧锥,夹紧锥与支撑块之间连接有驱动转轴。本发明通过对半导体晶圆片外径研磨装置设置相应的可调式研磨机构,可根据实际情况对硅晶棒进行可调式研磨,显著提高了对硅晶棒外径进行研磨的效率,避免了硅晶棒在研磨过程中出现研磨偏位的情况,提高了对硅晶棒进行外径研磨的精度。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20231128
✅ 授权
20220930
?? 实质审查的生效 :
20220913
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:115 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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