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摘 要:一种全平面太赫兹复合应变Si/SiGe异质结双极晶体管及制备方法,在N‑Si衬底两端形成STI隔离区;掺杂As形成N+亚集电区;在衬底表面淀积绝缘介质;外延一层本征单晶硅层作为集电区;非选择性外延Si缓冲层、掺C的Si1‑xGex层、Si帽层;在Si帽层上面依次淀积氧化层‑氮化层‑氧化层;选择性注入集电极;生长发射极内侧墙;淀积多晶硅发射极;生长发射极外侧墙;在非选择性外延层结构的两端采用嵌入式SiGe技术选择性外延Si1‑yGey层;采用发射极作掩膜淀积抬升的多晶硅非本征基区;刻蚀以定义基极和发射极的位置;淀积硅化物形成发射极、基极和集电极接触。本发明提高载流子的迁移率,提高器件工作速和集电区击穿电压,降低有源区的沟道宽度,缩小器件横向尺寸,抑制电流集边效应。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810437561.6 | 专利名称: | 全平面太赫兹复合应变Si/SiGe异质结双极晶体管及制备方法 |
申请日: | 2018-05-09 | 申请/专利权人 | 燕山大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 河北省秦皇岛市海港区河北大街西段438号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/737搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2020-05-29 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108630748B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |