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摘 要:本发明涉及金属栅电容统计分布的估计方法。一种金属栅功函数变化导致栅电容统计分布的估计方法,包括如下步骤:通过HSPICE软件,设定相关的变异参数,确定绝对标准偏差的大小,并进行10000次的蒙特卡罗仿真。提取MOSFET器件的栅电容参数C。将数据读取到MATLAB中并应用其统计工具箱,进行概率密度函数和累积概率函数拟合并表征;用假设检验判断统计的正确性。本发明利用密度函数、累计概率函数拟合并表征,使用假设检验判断,能在CMOS器件和电路设计早期,快速精确地预测由于MG‑WFV效应导致实际纳米器件和电路的制造性能变化的统计分布,以减少实际制造集成电路芯片性能的盲目性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201711298716.4 | 专利名称: | 一种金属栅功函数变化导致栅电容统计分布的估计方法 |
申请日: | 2017-12-08 | 申请/专利权人 | 杭州电子科技大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下沙高教园区 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G06F17/50搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2018-05-18 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108052727A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2021/05/14 | 授权 | |
2018/06/12 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): G06F 17/50 专利申请号: 201711298716.4 申请日: 2017.12.08 |
2018/05/18 | 公开 |