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摘 要:本发明提供一种LDMOS静电保护器件,包括衬底,衬底上设有深N阱,深N阱内从左到右依次设有第一P阱、第三N+注入区、第三P+注入区和第四N+注入区,第一P阱内从左到右依次设有第一P+注入区、第一N+注入区、第二N+注入区和第二P+注入区;第二N+注入区和第二P+注入区互相连接;第一P+注入区、第一N+注入区连接阴极;第三P+注入区、第四N+注入区连接阳极,第三P+注入区、深N阱、第一P阱构成第一PNP型晶体管;深N阱、第一P阱、第一N+注入区构成第一NPN型晶体管;第二N+注入区、第一P阱、第一N+注入区构成第二NPN型晶体管。本发明能够在不牺牲SCR结构较强泄放电流能力的同时提高维持电压,避免LDMOS器件发生闩锁,维持鲁棒性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810482780.6 | 专利名称: | LDMOS静电保护器件 |
申请日: | 2018-05-18 | 申请/专利权人 | 湖南大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 湖南省长沙市岳麓区麓山南路麓山门 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L27/02搜分类 L 器件 保护器件搜索 |
公开/公告日: | 2021-06-11 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108766964B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |