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摘 要:本发明涉及一种氧化镓相结纳米柱阵列及其制备方法,包括衬底,位于衬底上的Ga2O3籽晶层,位于Ga2O3籽晶层背离衬底层方向的有序的Ga2O3相结纳米柱阵列,所述Ga2O3纳米柱阵列由α‑Ga2O3和β‑Ga2O3构成相异质结构成。本发明通过在衬底上覆盖一层氧化镓籽晶层,利用水热法在籽晶层上生长GaOOH纳米柱阵列,并进行400℃脱水形成α‑Ga2O3纳米柱阵列,通过高温快速退火处理的方式在α‑Ga2O3纳米柱的周围形成一层β‑Ga2O3,获得α‑Ga2O3/β‑Ga2O3相结纳米柱阵列。本发明的制备方法操作简单、成本低、重复性好,纳米柱阵列分布均匀、直径和长度可控;通过构建α/β‑Ga2O3相结,在界面处形成第二类型的能带排列,能使载流子(电子空穴对)快速、有效的分离,同时纳米柱阵列具有高比表面积的优势,可应用于深紫外光电器件。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201711020720.4 | 专利名称: | 一种氧化镓相结纳米柱阵列及其制备方法 |
申请日: | 2017-10-27 | 申请/专利权人 | 浙江理工大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市经济技术开发区白杨街道2号大街928号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C30B7/10搜分类 阵列 纳米搜索 |
公开/公告日: | 2020-06-02 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN107841785B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |