发明专利 已授权

一种晶体生长过程高宽比控制方法

📄 申请号:CN201910729345.3 📄 发布日:2026/04/02

著录项目信息

申请日
2019-08-08
公开号
CN110359081A
公开日
2019-10-22
申请人
江南大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体单晶制造, 人工晶体生长, 光电晶体制备, 激光晶体生产, 蓝宝石衬底制造

摘要

本发明公开了一种晶体生长过程高宽比控制方法,属于生产过程控制领域。晶体生长系统包括生长装置、控制装置和基于视觉的尺寸检测装置。直流伺服电机带动载晶架顺时针旋转、停止、逆时针旋转、停止,循环运行。旋转停止时通过视觉系统在线检测晶体的尺寸,调节载晶架顺时针和逆时针旋转圈数、速度、停止时间,对生长晶体的高宽比进行控制,使成品晶体的高宽比接近1:1。本发明方法提高了大尺寸磷酸二氢钾晶体的质量。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20240119
?? 专利权的转移 :
20210219
✅ 授权
20191115
?? 实质审查的生效 :
20191022
📄 公开

同领域国内专利 · IPC: (C30B7_08)

¥12900.0
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:42 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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