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摘 要:本发明提供了一种金属氧化物叠层场效应材料的制备方法,采用真空气相沉积法在衬底上依次沉积第一金属氧化物、芯层金属和第二金属氧化物,所述第一金属氧化物和芯层金属发生氧化还原反应,在衬底上形成第一表层和芯层前驱体,所述芯层前驱体和第二金属氧化物发生氧化还原反应,形成芯层和第二表层;所述芯层中金属氧化物的带隙≥3eV,所述第一表层和第二表层中金属氧化物的带隙独立地≤3eV,所述芯层中金属氧化物的带隙与所述第一表层中金属氧化物的带隙的差值≥1eV。本发明提供的制备方法操作简单、生产成本低、成膜性好,产品具有高的载流子迁移率。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810695671.2 | 专利名称: | 一种金属氧化物叠层场效应材料的制备方法 |
申请日: | 2018-06-29 | 申请/专利权人 | 云南大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 云南省昆明市五华区翠湖北路2号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L21/02搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2020-12-25 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108878264B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |