摘 要:本发明提供了一种中红外波段激光器外延结构、中红外波段微腔激光器及其制备方法和应用、检测器件,涉及半导体器件技术领域,包括依次设置于衬底上的过滤缓冲层、n型波导层、n型限制层、有源区、p型限制层、p型波导层和p型覆盖层;过滤缓冲层包括InxGa1‑xAsySb1‑y,其中,0 著 录 项:
专利/申请号:
CN202011298766.4
专利名称:
中红外波段激光器外延结构、中红外波段微腔激光器及其制备方法和应用、检测器件
申请日:
2020-11-18
申请/专利权人
长春理工大学
专利类型:
发明
地址:
吉林省长春市朝阳区卫星路7089号
专利状态:
已下证
查询审查信息
分类号:
H01S5/028搜分类
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公开/公告日:
2021-11-26
转让价格:
面议
公开/公告号:
CN112421375B
交易状态:
等待洽谈
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