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摘 要:本发明公开了一种晶圆最大加工损伤的精准定位方法,在晶圆的非加工面沉积用于辅助测量的薄膜层,非加工面与加工面相互平行且呈背向设置,非加工面为光滑无损表面;再在晶圆的加工面进行至少一道减薄加工操作,并在每一道减薄加工操作之前后,将椭偏仪的入射光以设定的入射角扫描非加工面上的薄膜层,入射光在薄膜层和晶圆中经反射和折射后出射的椭偏信号经椭偏仪探测器接收,一旦在晶圆的辅助测量薄膜层上探测到的椭偏信号出现变化,则该出现椭偏信号变化对应的位置即为最大加工损伤位置。它具有如下优点:实现全局、无损、快速精准定位晶圆上的最大加工损伤位置,实时跟踪晶圆的加工状态,对实际晶圆的加工工艺的选择与优化具有重要的指导意义。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201910721403.8 | 专利名称: | 一种晶圆最大加工损伤的精准定位方法 |
申请日: | 2019-08-06 | 申请/专利权人 | 华侨大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 福建省泉州市丰泽区城东城华北路269号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G01N21/21搜分类 半导体 精准定位 定位方法搜索 |
公开/公告日: | 2019-12-03 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN110530799A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2022/02/08 | 授权 | |
2019/12/27 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): G01N 21/21 专利申请号: 201910721403.8 申请日: 2019.08.06 |
2019/12/03 | 公开 |