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摘 要:一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法,包括以下步骤:步骤1:制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版;步骤2:选择硅片作为基底材料,并进行清洗;步骤3:在硅片上涂敷光刻胶,形成光刻胶衍射图形;步骤4:采用干法刻蚀设备,光刻胶图形进行表面粗糙化处理;步骤5:配制液态的PDMS;步骤6:将液态PDMS滴入光刻胶结构;步骤7:经步骤6之后,光刻胶结构图形转移到PDMS材料上并形成固态;步骤8:将固化后的PDMS材料从光刻胶结构上剥离,制成柔性变角度阵列衍射光学器件。本发明全波段散斑抑制效果好、运动方式简单、易于实现、且系统通用性、鲁棒性好、成本低廉。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710985680.0 | 专利名称: | 一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法 |
申请日: | 2017-10-20 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市下城区潮王路18号浙江工业大学 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B5/18搜分类 光学仪器 P 阵列 器件搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |