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摘 要:本发明公开了一种具备微结构的三层氮化硅减反层,包括按光线入射方向依次层叠的第一氮化硅膜、第二氮化硅膜和第三氮化硅膜,所述第一氮化硅膜、第二氮化硅膜和第三氮化硅膜折射率依次增加而厚度依次减小,所述三层氮化硅减反层设有贯通所述第一氮化硅膜、第二氮化硅膜和第三氮化硅膜的纳米圆柱孔阵列微结构。本发明还公开了具备微结构的三层氮化硅减反层的制备方法,以等离子增强气相沉积法沉积氮化硅膜,由氮气流量和硅烷流量的比例控制氮化硅膜折射率,通过调控沉积时间控制氮化硅膜厚度。本发明在扩展增透光谱宽度的同时提高了光吸收率,且制备工艺兼容现有硅基电池工艺。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011090280.1 | 专利名称: | 一种具备微结构的三层氮化硅减反层及其制备方法 |
申请日: | 2020-10-13 | 申请/专利权人 | 常熟理工学院,苏州腾晖光伏技术有限公司 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市常熟市南三环路99号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L31/0216搜分类 硅 微 微生物采样 三 港口 氮化硅搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |