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摘 要:本发明公开了一种防静电抛光层、抛光垫及其制备方法和应用,所述防静电抛光层包括如下按质量百分比计的原料:聚氨酯预聚物1%~30%;磨粒40%~96%;抗静电的导电物质1%~10%;交联剂1%~10%;多孔氧化锆1%~10%。所述抛光垫包括:基体层,所述基体层包括弹性衬底层和制备在弹性衬底层上的刚性层;上述防静电抛光层,所述抛光层制备在所述刚性层上;所述抛光层和刚性层以及弹性衬底层和刚性层均通过粘结剂粘结。本发明提供了一种防静电抛光层,所述防静电抛光层中含有抗静电的导电物质,使用该抛光层制备得到的抛光垫可防止CMP工作系统的故障,同时保证晶圆的表面加工质量,具有良好的应用前景。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110642340.4 | 专利名称: | 一种防静电抛光层、抛光垫及其制备方法和应用 |
申请日: | 2021-06-09 | 申请/专利权人 | 广东工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 广东省广州市越秀区东风东路729号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B24B37/22搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 23000.0元 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |